Автор туралы ақпарат

Бобылев, А. В.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 52, № 4 (2023) ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ Concentration of Fluorine Atoms and Kinetics of Reactive-Ion Etching of Silicon in CF4 + O2, CHF3 + O2, and C4F8 + O2 Mixtures